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镀镍系列产品

Nickel plating

名称:装饰性光亮度铬工艺

装饰性光亮度铬工艺

※产品特点

1、 走位能力强,适用于形状复杂工件的镀铬

2、 工作温度范围较宽,38-50℃均可正常工作;

3、 阴极电流效率高,沉积速度快,可采用较高的电镀密度操作;

4、 镀液对工件活化能力强,不易发花;

5、 对杂质容忍度高,工艺稳定,容易控制。

镀液组成和工艺条件

铬    酐 

铬酐/硫酸 

铬酐/三价铬

150250g/L

150-250 1 

100-150 1

220g/L

200 1

100 -150 1

铬走位剂

 812ml/L

10ml/L

温  度   

镀液波美度  

阴极电流密度 

38  50 

19  23

10  20 安培/平方分米

 42 -45 

19  23 

15 安培/平方分米

设备要求

1、 整流器: 要保证足够的容量,波纹系数 < 5% ; 否则会影响深镀能力;

2、 阳极应采用铅锡合金或铅锑合金,阴极和阳极面积比为 2-3

镀液配制方法

1、 在清洗过的镀槽内加入三分之二的蒸馏水或去离子水,并加热到40℃;

2、 将计算量的铬酐缓慢加入槽内,搅拌使其全部溶解;

3、 将铬走位剂加入镀液内,再将水量调至工作液面,并搅拌均匀;

4、,分析溶液中硫酸含量,再根据溶液中铬酐和硫酸的比例,补加硫酸;

5、 采用大阴极、小阳极面积电解处理槽液,以产生所需量的三价铬,也可添加双氧水或洒精,但要十分小心;

6、 试镀工件,观察溶液的覆盖能力和镀层的亮度,若符合要求即可投入生产


添加剂的作用

铬走位剂 它是混合型的催化剂,可显著提高低电位区的覆盖能力,还可提高电镀的沉积速度;

镀液维护

1、 硫酸: 镀液中的硫酸含量极为重要,过高的硫酸含量会使走位变差,低电位区发黄;过低的硫酸会使铬层起彩;

2、 三价铬:三价铬太高会使电流效率下降,走位也变差,高区还会发暗或烧焦。太低的三价铬则不能电镀出正常的铬镀层。

3、 温度:温度太低会使镀层发花或发雾,太高则使镀液浓度上升太快;

4、 其它杂质影响:

氯离子:氯离子对镀铬极为有害,它会使镀层发花或发雾,可采用电解方法去除;铁离子:少量的铁离子影响不大,但超过10/升会使走位能力明显下降,特别是同时含有镍、铜、锌等金属杂质时,影响更严重。太多的铁和其它金属杂质可采用素烧陶瓷电解,或稀释镀液的方法解决故障。

3、 铬走位剂光亮剂的补充:

一般情况下,铬走位剂应与铬酐同时补充,每添加100公斤铬酐需要补充4-5升的铬走位剂如果是原来没有用走位剂的铬槽转缸时,应加入适量的碳酸钡将槽中硫酸含量降低到1/升左右,再加入铬走位剂

 

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